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公司介绍

奥法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于医药行业,耕耘于纳米科学材料,不溶性微粒检测仪,化工,半导体,环境科学,汽车,过滤,涂料,墨水,油品等行业,以专业的纳米微米检测技术,“致力粒度分析,专注客户体验”。这已经成为奥法美嘉团队的信条。公司产品:不溶性微粒检测仪,不溶性微粒分析仪,纳米激光粒度仪,动态光散射仪,纳米粒度和zeta电位分析仪,粒度仪,激光粒度仪,大乳粒检测仪,液体颗粒计数器,光阻法,脂肪乳大颗粒检测,过滤效率检测仪,脂肪乳大颗粒,过滤效率,纳米粒径分析仪,不溶性微粒检查法,纳米粒径分析仪,大乳粒分析仪,在线式液体颗粒计数器,研磨液检测。借助于
主推产品

PSS Nicomp 380 Z3000 zeta电位检测仪
500000元
Pharmsteri™ PTFE筒式过滤器
1万元以下
Pharmsteri™II PES0.22缓冲囊式过滤器
1万元以下推荐产品
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摘要:抛光液中氧化剂以及湿法清洗工艺中的化学药液是晶圆生产过程中的关键组分,其浓度直接影响晶圆良率和工艺稳定性。本文基于Entegris SemiChem APM 200型浓度计,对其在监测浓度时采用的滴定法与标准加入法的工作原理进行说明。通过举例详述DSP清洗液中的各个组分的滴定步骤与计算过程,为CMP工艺中氧化剂浓度监控及湿法清洗工艺中关键化学品浓度的在线、精准监测提供了清晰的理论基础与方法依
值此 2026 元旦佳节来临之际,奥法美嘉向全体并肩奋斗的伙伴、信赖相伴的客户与各界同仁,致以最诚挚的新年祝福与衷心的感谢!回首2025,我们秉持“求诚求信求真知”的初心,以专业技术深耕医药、半导体、新材料、新能源等核心赛道,用精准检测赋能产业升级。每一份突破,皆凝聚着团队的匠心与坚守;每一次前行,都离不开客户的信赖与同行。新岁启封,我们怀揣初心,以“纳米科技,改变未来”为愿景,继续传递粒度真知,
摘要:针对医药混悬液 “粒径不均、大颗粒残留、稳定性差” 的行业痛点,本文以PSI-20 高压微射流均质机为核心设备,制定了医药混悬液均质处理的应用方案。同时,利用动态光散射(DLS)、单颗粒传感技术(SPOS)以及空间时间消光图谱法(STEP)等对均质后的样品进行粒度和稳定性表征。结果表明:混悬液样品A在连续均质30min后,平均粒径从3332.10nm 降至664.52nm,PI值从0.643
摘要:安瓿瓶作为一种广泛应用于医药行业(尤其是注射剂型)的注射药液包装容器,因其高密封性,在开启过程中易产生玻璃碎屑,并可能混入药液。这些不溶性微粒在注射时若随药液进入人体,将带来潜在的安全风险。为此,本文通过系统比较不同安瓿瓶开启方式与所产生不溶性微粒数量的关系,筛选出适宜的开启方法,并在此基础上总结出一套较为规范、完整的安瓿瓶开启操作流程。关键词:安瓿瓶,不溶性微粒,开瓶方法一、概念和背景介绍
摘要:为探究有色样品的颜色对光阻法检测不溶性微粒是否存在影响,本实验以深红色血液制品为对象,加入标粒之后检测,观察标粒粒径是否偏移;本实验采用了美国Accusizer A2000 USP不溶性微粒检测仪进行测试,实验结果有力表明,该设备在检测红色样品时抗干扰能力强,可以提供可靠的不溶性微粒检测数据。关键词:不溶性微粒;光阻法;有色样品;血液样品;检测干扰不溶性微粒(Sub-visible Part
摘要:在个人护理用品市场,产品的视觉表现已成为影响消费者选择的关键因素。尤其是对于牙膏这类凝胶悬浮液产品,其内部大量添加的二氧化硅颗粒(作为磨料或增稠剂)与基液之间的折射率差异,会导致光线散射,造成产品浑浊或不透明。如何在保持功能性的同时实现产品的高透明度,一直是行业面临的技术难题。近期,一项发表于国际期刊《Colloids and Surfaces A》的研究,通过系统应用折射率匹配方法,成功实
摘要:电子设备向微型化、高性能化发展,MLCC性能升级受传统分散设备制约。本文聚焦高压微射流均质机,其借高压射流、剪切效应实现物料纳米级分散,解决传统设备痛点,覆盖MLCC浆料制备等场景,优化产品性能。未来设备向连续化、高精度升级,为MLCC行业破瓶颈、助电子产业升级,供企业选型参考。关键词:MLCC;高压微射流均质机;浆料制备;电子元件;性能优化一、MLCC行业的“痛点”:从浆料开始的性能博弈在
第十八届药物制剂大会,11月22日至23日在南京白金汉爵大酒店举行,主题为“先进制剂的研究与转化”。本届大会汇聚国内药物制剂领域的专家、学者及企业代表,围绕现代制剂技术、药用辅料创新等前沿议题,共同探讨产业升级与创新发展。本次大会奥法美嘉携带涵盖“颗粒制备—过程控制—颗粒表征”全套仪器模型参展,为参会嘉宾呈现奥法美嘉全流程体系的一体化解决方案。奥法美嘉秉承“传递粒度真知,普及纳米知识”的理念,可定
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CMP研磨液粒度测量技术SPOS对比激光衍射CMP研磨液的粒度分析:SPOS与激光衍射半导体行业正在朝着更小的线宽和更多的层数发展。实现这种更高密度芯片技术的最重要的工艺考虑因素之一是对平坦化步骤更复杂的控制。平坦化或抛光步骤通过使用主要为二氧化硅和氧化铝的胶体分散金属氧化物浆料(化学机械平坦化或 CMP)来实现,平均直径在 10 – 200 nm 范围内。这些研磨液被施加到放置晶片的旋转抛光垫上
喷墨油墨的颗粒浓度监测AccuSizer ®概述喷墨油墨是颜料在溶液中的胶体分散体。颜料的适当分散是必要的,以避免由于结块而导致的沉淀、不稳定或喷墨喷嘴故障。确保最佳的配方和制造工艺需要一种可靠的方法来确定最终产品的粒度分布。Entegris AccuSizer® 单颗粒光学传感技术 (SPOS) 系统非常适合确定最终喷墨墨水是否包含过大颗粒,这些颗粒会带来喷头堵塞并导致其他性能下降的风险。本应用
要检测多少粒子?AccuSizer ®系统AccuSizer® 生成的结果是粒度分布。分布的属性受统计规则的约束。使用粒度分析仪时,一个重要的问题是需要测量多少样品才能正确定义所得粒度分布。本技术说明从数学和实验两个方面解决这个问题。介绍如果样品中的所有颗粒大小完全相同,则测量一个颗粒并报告结果。如果样品的分布很窄,比如说 10 – 25 μm,那么也许只测量少量颗粒就可以定义粒度分布。但是,如果
为什么购买AccuSizer颗粒计数系统?有太多理由让您的下一个粒度分析仪选择AccuSizer®系统什么是ACCUSIZER系统使用单颗粒光学传感 (SPOS) 技术的颗粒计数器和粒度分析仪。具有多种配置可选,但所有系统都包括SPOS传感器,脉冲高度分析仪(或计数器)和样品流通池,用于通过传感器传输样品。许多样品流通池自动将样品稀释至最佳浓度,以获得最准确的结果。在多达 1024 个粒径通道中报
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CMP研磨液粒度测量技术SPOS对比激光衍射CMP研磨液的粒度分析:SPOS与激光衍射半导体行业正在朝着更小的线宽和更多的层数发展。实现这种更高密度芯片技术的最重要的工艺考虑因素之一是对平坦化步骤更复杂的控制。平坦化或抛光步骤通过使用主要为二氧化硅和氧化铝的胶体分散金属氧化物浆料(化学机械平坦化或 CMP)来实现,平均直径在 10 – 200 nm 范围内。这些研磨液被施加到放置晶片的旋转抛光垫上
2023-11-10

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